佳能發(fā)布FPD曝光設(shè)備“MPAsp-E903T”, 應(yīng)用于高精細中小型顯示面板制造且解析度達1.2μm

日期：2020-11-16

佳能※1將于2020年11月下旬正式發(fā)售FPD（Flat Panel Display）曝光設(shè)備新產(chǎn)品“MPAsp-E903T”。該產(chǎn)品可應(yīng)對第6代玻璃基板尺寸※2，針對因進一步高精細化而備受期待的新一代中小型顯示面板市場，可以實現(xiàn)1.2μm※3的解析度（L/S※4）。

MPAsp-E903T

       顯示面板技術(shù)隨著OLED的普及逐漸向高精細化方向發(fā)展，同時在智能手機上的應(yīng)用變得越來越薄型化、輕量化，而在折疊式應(yīng)用上趨向不斷大型化。另一方面，在VR相關(guān)的顯示產(chǎn)品上小型化的趨勢也在不斷發(fā)展，呈現(xiàn)多樣化的需求。新產(chǎn)品可以應(yīng)對新一代顯示面板制造中不可或缺的高精細化需求，致力于實現(xiàn)多種面板的生產(chǎn)制造。

       ■ 實現(xiàn)FPD曝光設(shè)備中的1.2μm高解析度

       在佳能的FPD曝光設(shè)備中，新產(chǎn)品首次※5搭載使用了DUV（深紫外線）※6波長的新光源。該產(chǎn)品充分利用了鏡面光學(xué)系統(tǒng)特有的優(yōu)點，即使波長變化對色差影響很小，通過使用比以往的紫外線波長更短的新光源以及新開發(fā)的投影光學(xué)系統(tǒng)，實現(xiàn)了1.2μm解析度的曝光。如果應(yīng)用相移掩模等超解析技術(shù)※7可進一步實現(xiàn)1.0μm解析度的曝光，助力顯示技術(shù)的高精細化發(fā)展。

       ■ 多樣化的曝光模式，用戶可靈活構(gòu)建工藝產(chǎn)線

       在搭載新投影光學(xué)系統(tǒng)和新光源系統(tǒng)的基礎(chǔ)上，新產(chǎn)品增加了曝光模式數(shù)量，可匹配合適的曝光條件，實現(xiàn)多種電路圖的高效曝光。此外，新產(chǎn)品還可以與掩模版尺寸和設(shè)備界面都共通的上一代機型“MPAsp-E813H”（2014年9月發(fā)布）組合使用，便于用戶靈活地構(gòu)建工藝產(chǎn)線。

       ■ 兼顧生產(chǎn)性，提升套刻精度

       通過設(shè)備內(nèi)部布局和溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)的改進，實現(xiàn)了±0.25μm的高套刻精度（重合性精度）。因此，該產(chǎn)品可以有效滿足用戶高精細面板生產(chǎn)的需求。

※1

為方便讀者理解，本文中佳能可指代：佳能（中國）有限公司，佳能股份有限公司，佳能品牌等

※2

1,500×1,850mm尺寸的玻璃基板，應(yīng)用于以智能手機為代表的中小型顯示面板的制造中。

※3

1μm為百萬分之一米（＝1mm 的千分之一）。

※4

Line and Space的簡稱。Line（線程）和Space（間距）等距離間隔排列電路圖。

※5

針對FPD曝光設(shè)備。截至2020年11月9日。（佳能調(diào)查）

※6

Deep ultra-violet的簡稱。與以往的FPD曝光設(shè)備使用的紫外線相比更短波長的紫外線。

※7

控制光的位相或強度，使曝光設(shè)備解析度提升的技術(shù)。

＜主要特點＞

1. 實現(xiàn)FPD曝光設(shè)備中的1.2μm高解析度

● 

在FPD曝光設(shè)備中，新產(chǎn)品首次搭載使用DUV（深紫外線）波長的新光源。充分利用了即使波長變化也對色差影響很小的鏡面光學(xué)系統(tǒng)所特有的優(yōu)點，實現(xiàn)了比以往所使用的g線（436nm※），h線（405nm）和i線（365nm）更短的290～380nm。由于使用了新光源以及新開發(fā)的投影光學(xué)系統(tǒng)，新產(chǎn)品實現(xiàn)了1.2μm解析度曝光，可以推進顯示面板的進一步高精細化。

●

應(yīng)用相移掩模等超解析技術(shù)可實現(xiàn)1.0μm解析度的曝光。

新DUV光源和新光學(xué)系統(tǒng)示意圖（外觀從右側(cè)觀看主機時）

新舊光源波長分布比較

※1nm（納米）等于10億分之1米。

2. 多樣化的曝光模式，用戶可靈活構(gòu)建工藝產(chǎn)線

       在搭載新投影光學(xué)系統(tǒng)和新光源系統(tǒng)的基礎(chǔ)上，新產(chǎn)品增加了曝光模式數(shù)量，可匹配合適的曝光條件，實現(xiàn)多種電路圖的高效曝光。采用和上一代機型“MPAsp-E813H”共通的掩模版尺寸和設(shè)備交互界面，可實現(xiàn)新舊機型的組合使用，削減運營成本，便于用戶靈活構(gòu)建工藝產(chǎn)線。

電路圖形和曝光模式的種類

※1

Line and Space的略稱。Line（線程）和Space（間距）等距離間隔排列電路圖。

※2

Contact Hole的略稱。為形成配線貫穿復(fù)數(shù)層的圓形電路。

※3

σ（sigma）表示，光源系統(tǒng)NA（開口數(shù)）和投影系統(tǒng)NA（開口數(shù)）的比率。

3. 兼顧生產(chǎn)性，提升套刻精度

       通過設(shè)備內(nèi)部布局和溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)的改進，實現(xiàn)±0.25μm的高套刻精度（重合性精度）。因此，新產(chǎn)品可以有效地滿足用戶高精細面板生產(chǎn)的需求。

＜新產(chǎn)品介紹視頻＞

新產(chǎn)品的技術(shù)介紹視頻在佳能官網(wǎng)上現(xiàn)已發(fā)布。視頻配有針對產(chǎn)品特點的清晰易懂的解說。

URL：https://www.canon.com.cn/video/Video_play/225.html

＜中小型顯示面板制造設(shè)備的市場動向＞

顯示面板技術(shù)隨著OLED的普及逐漸向高精細化方向發(fā)展，同時在智能手機上的應(yīng)用變得越來越薄型化、輕量化，而在折疊式應(yīng)用上趨向不斷大型化。另一方面，在VR相關(guān)的顯示產(chǎn)品上小型化的趨勢也在不斷發(fā)展，呈現(xiàn)多樣化的需求。因此，F(xiàn)PD曝光設(shè)備致力于超高精細和可折疊式等高附加值顯示面板的量產(chǎn)。

＜主要產(chǎn)品規(guī)格＞

詳細的產(chǎn)品規(guī)格請參考公司網(wǎng)站。

URL：https://global.canon/en/product/indtech/fpd/

＜敬請閱覽：佳能光刻機設(shè)備50周年紀念網(wǎng)站＞

今年是佳能正式進入半導(dǎo)體光刻機事業(yè)的50周年。50周年之際，我們發(fā)布了“佳能光刻機50周年紀念網(wǎng)站”，通過圖片和視頻等易于理解的方式說明“光刻機”的原理和性能。此外，我們還面向青少年專門開設(shè)了一個頁面，幫助他們理解曝光的原理。

URL：https://global.canon/en/product/indtech/semicon/50th/